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形成介电层组合物、生片、基片、及应用

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710167136.1
  • IPC分类号:H01J17/02;H01J17/04;H01J17/16;H01B3/08;H01J9/02;H01J9/24
  • 申请日期:
    2007-10-24
  • 申请人:
    琳得科株式会社
著录项信息
专利名称形成介电层组合物、生片、基片、及应用
申请号CN200710167136.1申请日期2007-10-24
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2008-05-14公开/公告号CN101178996
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J17/02IPC分类号H;0;1;J;1;7;/;0;2;;;H;0;1;J;1;7;/;0;4;;;H;0;1;J;1;7;/;1;6;;;H;0;1;B;3;/;0;8;;;H;0;1;J;9;/;0;2;;;H;0;1;J;9;/;2;4查看分类表>
申请人琳得科株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人琳得科株式会社当前权利人琳得科株式会社
发明人奥田卓也;村山健一;福田达夫
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人张平元
摘要
一种包括无机组分、热分解粘合剂、分散剂和溶剂的形成介电层的组合物,其中该无机组分包括软化点为450-600℃并且平均颗粒直径为0.1-3.0μm的颗粒,一种通过将形成介电层的组合物成型为薄膜得到的生片、一种使用生片形成的介电层固定基片、其制造方法,和一种制造等离子体显示板的方法。

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