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光电探测单元、光电探测结构和光电探测器及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911141576.9
  • IPC分类号:H01L31/10;H01L27/144
  • 申请日期:
    2019-11-20
  • 申请人:
    深圳市灵明光子科技有限公司
著录项信息
专利名称光电探测单元、光电探测结构和光电探测器及其制备方法
申请号CN201911141576.9申请日期2019-11-20
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-05-21公开/公告号CN112825339A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/10IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;0;;;H;0;1;L;2;7;/;1;4;4查看分类表>
申请人深圳市灵明光子科技有限公司申请人地址
广东省深圳市南山区西丽街道高新技术产业园北区清华信息港科研楼4层410号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市灵明光子科技有限公司当前权利人深圳市灵明光子科技有限公司
发明人臧凯;李爽;张超
代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司代理人汪洁丽
摘要
本申请涉及光电探测单元、光电探测结构及其制备方法、光电探测器及其制备方法,其中,光电探测单元包括第一基底;第一结构,具有第一掺杂类型,形成于第一基底的正面上;第二结构,具有第二掺杂类型,形成于第一结构内,第一结构具有包围第二结构底面和侧面的底壁和侧壁;第一光处理层,具有凹凸结构,形成于第二结构的上表面;重掺杂区,具有第一掺杂类型,形成于侧壁内,重掺杂区的掺杂浓度大于侧壁的掺杂浓度;第一电极,与重掺杂区电连接;第二电极,与第二结构电连接。在本申请中,第一结构和第二结构形成光探测层,在光探测层上形成第一光处理层,通过第一光处理层对入射光线进行多次反射以增加光程,提高光探测层的光吸收效率。

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