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氮化镓成形物及其制造方法以及氮化镓溅射靶材

发明专利有效专利

申请号：
CN201510648721.8
IPC分类号：C04B35/58;C22C29/16;C23C14/34
申请日期：
2011-12-20
申请人：
东曹株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	氮化镓成形物及其制造方法以及氮化镓溅射靶材
申请号	CN201510648721.8	申请日期	2011-12-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-02-24	公开/公告号	CN105347800A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C04B35/58 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C04 水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕 C04B 石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如：砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷（微晶玻璃陶瓷入C03C 10/00）；耐火材料（难熔金属的合金入C22C）；天然石的处理〔4〕 C04B35/00 以成分为特征的陶瓷成型制品；陶瓷组合物（含有不用作宏观增强剂的，粘接在碳化物、金刚石、氧化物、硼化物、氮化物、硅化物上的游离金属，例如陶瓷或其他金属化合物，例如氧氮化合物或硫化物的入C22C）；准备制造陶瓷制品的无机化合物的加工粉末〔4〕 C04B35/515 以非氧化物为基料的（C04B 35/50、C04B 35/51优先）〔6〕 C04B35/58 以硼化物、氮化物或硅化物为基料的〔4，6〕	IPC分类号	C;0;4;B;3;5;/;5;8;;;C;2;2;C;2;9;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人	东曹株式会社	申请人地址	日本山口县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东曹株式会社	当前权利人	东曹株式会社
发明人	召田雅实;松丸庆太郎;高桥小弥太;菊池僚;涩田见哲夫
代理机构	北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新宇;李茂家

摘要

本发明提供不使用特殊装置的、高密度且低氧量的氮化镓成形物及其制造方法以及氮化镓溅射靶材。根据第二实施方式，可以获得一种金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，其包含以各自的相的形式存在的氮化镓相和金属镓相，Ga/(Ga+N)的摩尔比为55％以上且80％以下。

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