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抗蚀剂剥离剂

发明专利无效专利

申请号：
CN03800355.4
IPC分类号：G03F7/42;H01L21/027
申请日期：
2003-03-27
申请人：
美录德有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	抗蚀剂剥离剂
申请号	CN03800355.4	申请日期	2003-03-27
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-09-29	公开/公告号	CN1533516
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕 G03F7/42 剥离或剥离剂〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;4;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	美录德有限公司	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	美录德有限公司	当前权利人	美录德有限公司
发明人	藤田康治;堀越弘幸;新井亨
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	刘元金;庞立志

摘要

本发明通过使抗蚀剂剥离剂为至少含有在分子内有下式(1)所示结构的杂环化合物作为添加剂的碱性水溶液，可以防止溶出于抗蚀剂剥离剂中的铜离子引起的锡在铜上的再析出，从而从铜上剥离抗蚀剂。

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