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涂布膜形成组合物和半导体装置的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980024774.9
  • IPC分类号:C09D139/04;C09D7/20;H01L21/312;H01L21/768;H01L23/532
  • 申请日期:
    2019-04-02
  • 申请人:
    日产化学株式会社
著录项信息
专利名称涂布膜形成组合物和半导体装置的制造方法
申请号CN201980024774.9申请日期2019-04-02
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-11-13公开/公告号CN111936588A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D139/04IPC分类号C;0;9;D;1;3;9;/;0;4;;;C;0;9;D;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;3;/;5;3;2查看分类表>
申请人日产化学株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日产化学株式会社当前权利人日产化学株式会社
发明人西田登喜雄;坂本力丸;染谷安信;岸冈高广
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人暂无
摘要
提供涂布膜形成组合物和使用了其的半导体装置的制造方法,所述涂布膜形成组合物包含(a)含有由下述式(1a)或(1b)表示的结构单元的聚合物,和(b)包含1~49质量%的选自丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚、2‑羟基异丁酸甲酯、3‑乙氧基丙酸乙酯和乳酸乙酯中的至少1种的有机溶剂和51~99质量%的水的溶剂。

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