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一种SiC基二硫化钨紫外-可见光电探测器及其制备方法和应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110251934.2
  • IPC分类号:H01L31/101;H01L31/113;H01L31/0224;H01L31/18
  • 申请日期:
    2021-03-08
  • 申请人:
    华南师范大学
著录项信息
专利名称一种SiC基二硫化钨紫外-可见光电探测器及其制备方法和应用
申请号CN202110251934.2申请日期2021-03-08
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-09公开/公告号CN113097334A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/101IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;0;1;;;H;0;1;L;3;1;/;1;1;3;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;2;4;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人华南师范大学申请人地址
广东省广州市天河区石牌中山大道西55号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华南师范大学当前权利人华南师范大学
发明人李京波;张帅;高伟;张峰;岳倩;郑涛
代理机构广东广信君达律师事务所代理人彭玉婷
摘要
本发明属于紫外‑可见探测技术领域,公开了一种SiC基二硫化钨紫外‑可见光电探测器及其制备方法和应用。该探测器的结构为背电极/n+SiC(360μm)/n‑SiC(11μm)/对称电极/WS2纳米片;所述探测器先在SiO2/Si衬底上通过机械剥离制备微米尺寸的不规则WS2纳米片;再通过PVA干法转移工艺,将WS2转移至已通过光刻蒸镀工艺沉积对称电极的SiC衬底上,最后将附有WS2/PVA膜的SiC衬底放入50~60℃去离子水或二甲基亚砜中加热使PVA膜溶解;保护气氛中在100~250℃退火获得。本发明提高了WS2探测器的性能,促进了SiC基二维材料功能器件的应用发展,有利于商业化推广。

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