利用反射泰铂效应成像的方法及其应用及装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201210304971.6
IPC分类号：G01N21/17;G02B27/09;G02B21/36
申请日期：
2012-08-26
申请人：
贵州大学

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著录项信息

专利名称	利用反射泰铂效应成像的方法及其应用及装置
申请号	CN201210304971.6	申请日期	2012-08-26
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2013-01-23	公开/公告号	CN102890060A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/17 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/17 入射光根据所测试的材料性质而改变的系统（其中所测试的材料因受到光学激发而引起入射光波长改变的入G01N 21/63）〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;1;7;;;G;0;2;B;2;7;/;0;9;;;G;0;2;B;2;1;/;3;6查看分类表>
申请人	贵州大学	申请人地址	贵州省贵阳市花溪区贵州大学北校区科学技术处变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	贵州大学	当前权利人	贵州大学
发明人	黄伟其
代理机构	贵阳中新专利商标事务所	代理人	李亮;程新敏

摘要

本发明公开了一种利用反射泰铂效应成像的方法及其应用及装置，用激光束作照明光源，通过光路修整激光的波形后，对不透明的周期结构样品进行照射，使照射后产生的反射光束在反射泰铂像屏上成像。本发明采用激光作为光源，通过光路修整激光的波形后，对不透明的周期结构样品进行照射，使照射后产生反射自成像。本发明可应用于各种激光微加工结构的观察与控制系统中，特别是在硅基上的光子晶体与波导的光子制备中，它能对真空腔中的样品实现在线的反射泰铂成像放大与显微分析，极大的简化了硅基上微结构的放大与显微工序，提高了生产效率。

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