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在衬底处理系统中用于无匹配式等离子体源的直接频率调谐

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980054228.X
  • IPC分类号:H01J37/32;H03H7/40;H02M3/337
  • 申请日期:
    2019-08-08
  • 申请人:
    朗姆研究公司
著录项信息
专利名称在衬底处理系统中用于无匹配式等离子体源的直接频率调谐
申请号CN201980054228.X申请日期2019-08-08
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2021-03-30公开/公告号CN112585715A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;3;H;7;/;4;0;;;H;0;2;M;3;/;3;3;7查看分类表>
申请人朗姆研究公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人朗姆研究公司当前权利人朗姆研究公司
发明人王雨后;龙茂林;吴垠;亚历山大·米勒·帕特森
代理机构上海胜康律师事务所代理人李献忠;张华
摘要
一种用于将RF功率提供至衬底处理系统的部件的驱动电路包含在第一频率下运行的等离子体源。负载包含所述衬底处理系统的所述部件。阻抗网络将所述等离子体源连接至所述负载。电流传感器感测在所述等离子体源的输出处的电流。电压传感器感测在所述等离子体源的所述输出处的电压。控制器包含调谐频率计算器,所述调谐频率计算器被设置成:基于所述电压、所述电流以及所述阻抗网络的配置来计算用于所述等离子体源的调谐频率;以及基于所述调谐频率来调节所述第一频率。

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