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一种微流控芯片快速成型装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201922476081.3
  • IPC分类号:B29C64/264;B29C64/20;B29C64/393;B29C64/35;B33Y30/00;B33Y50/02
  • 申请日期:
    2019-12-31
  • 申请人:
    深圳市光韵达增材制造研究院;深圳市呈仪科技有限公司;深圳协同创新高科技发展有限公司
著录项信息
专利名称一种微流控芯片快速成型装置
申请号CN201922476081.3申请日期2019-12-31
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B29C64/264IPC分类号B;2;9;C;6;4;/;2;6;4;;;B;2;9;C;6;4;/;2;0;;;B;2;9;C;6;4;/;3;9;3;;;B;2;9;C;6;4;/;3;5;;;B;3;3;Y;3;0;/;0;0;;;B;3;3;Y;5;0;/;0;2查看分类表>
申请人深圳市光韵达增材制造研究院;深圳市呈仪科技有限公司;深圳协同创新高科技发展有限公司申请人地址
广东省深圳市坪山区金牛西路西段北侧华瀚科技工业园3号厂房 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市光韵达增材制造研究院,深圳市呈仪科技有限公司,深圳协同创新高科技发展有限公司当前权利人深圳市光韵达增材制造研究院,深圳市呈仪科技有限公司,深圳协同创新高科技发展有限公司
发明人周江保;周利锋;李喜露;李娜娜
代理机构广州粤高专利商标代理有限公司代理人晁永升
摘要
本实用新型涉及一种微流控芯片快速成型装置,包括透光基板、第一光机及第二光机;基板水平设置,基板用于放置光固化胶材料,第一光机和第二光机分别设置在基板的上下两侧,且第一光机和第二光机相对设置,用于对光固化胶材料的两侧进行曝光处理;且第一光机和基板之间配设有第一遮光机构,第二光机和基板之间配设有第二遮光机构,第一遮光机构和第二遮光机构用于实现曝光控制。利用第一光机和第二光机同时对光固化胶材料的两侧进行曝光处理,改善了微流控芯片的成型速度,简化了加工过程,且使制得的微流控芯片具有较高均匀性和稳定性。此外,通过调整图像信号的分辨率和成像景深就可以实现深宽比较大的微流控芯片的制备,克服了现有技术的不足。

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