抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201010273819.7
IPC分类号：H01S3/08;H01S3/10
申请日期：
2010-09-06
申请人：
中国科学院上海光学精密机械研究所

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专利名称	抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法
申请号	CN201010273819.7	申请日期	2010-09-06
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2011-02-16	公开/公告号	CN101976796A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01S3/08 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01S 利用受激发射的器件 H01S3/00 激光器，即利用受激发射对红外光、可见光或紫外线进行产生、放大、调制、解调或变频的器件（半导体激光器入H01S 5/00） H01S3/05 光学谐振器的结构或形状；包括激活介质的调节；激活介质的形状 H01S3/08 光学谐振器或其部件的结构或形状〔2〕	IPC分类号	H;0;1;S;3;/;0;8;;;H;0;1;S;3;/;1;0查看分类表>
申请人	中国科学院上海光学精密机械研究所	申请人地址	上海市800-211邮政信箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所	当前权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人	孟涛;唐景平;胡俊江;温磊;陈力;陈伟;胡丽丽
代理机构	上海新天专利代理有限公司	代理人	张泽纯

摘要

一种抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法，包括(一)选取与所述的片状激光钕玻璃相匹配的吸收玻璃和有机粘接剂；(二)所述的片状激光钕玻璃和吸收玻璃板条的加工和粘贴，(三)片状激光钕玻璃的通光面进行精密抛光等步骤。本发明可有效地抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射和寄生振荡，增益性能接近理论计算水平，并具有较好的稳定性，满足高功率激光装置的使用要求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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