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使用高阶离轴对准信号确定对准位置的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200510030577.8
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2005-10-14
申请人：
上海微电子装备有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	使用高阶离轴对准信号确定对准位置的方法
申请号	CN200510030577.8	申请日期	2005-10-14
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2006-05-31	公开/公告号	CN1779572
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司	申请人地址	上海市张江高科技园区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	孔正国
代理机构	上海智信专利代理有限公司	代理人	王洁

摘要

一种使用高阶离轴对准信号确定对准位置的方法，包括如下步骤(a)在扫描过程中使用光电传感器进行信号测量，得到多级次信号；(b)校正各级次信号间的相位偏移；(c)确定各级次信号的对准位置；(d)根据各级次信号的对准位置确定最终对准位置。本发明在确定对准位置时使用了高阶对准信号，通过计算各级次信号的对准位置来确定最终的对准位置，大大提高对准位置的计算精度。

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