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具有双抽吸模式的离子植入装置及其方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200780049119.6
  • IPC分类号:H01J37/08;H01J37/302;H01J37/317;H01J27/02
  • 申请日期:
    2007-11-08
  • 申请人:
    瓦里安半导体设备公司
著录项信息
专利名称具有双抽吸模式的离子植入装置及其方法
申请号CN200780049119.6申请日期2007-11-08
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2009-11-18公开/公告号CN101584018
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/08IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;0;8;;;H;0;1;J;3;7;/;3;0;2;;;H;0;1;J;3;7;/;3;1;7;;;H;0;1;J;2;7;/;0;2查看分类表>
申请人瓦里安半导体设备公司申请人地址
美国麻萨诸塞州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瓦里安半导体设备公司当前权利人瓦里安半导体设备公司
发明人乔纳森·吉罗德·英格兰;克里斯多夫·R·汉特曼;杰·汤玛斯·舒尔;约瑟·C·欧尔森
代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司代理人寿宁
摘要
本发明揭示一种用于产生原子或分子离子束的具有双抽吸模式的离子植入装置及其方法。在一个特定示范性实施例中,提供一种离子植入设备,其用于控制对应于所产生的离子束种类的离子束源外壳内的压力。离子植入设备可包含离子束源外壳,其包括用于离子束产生的多个种类。还可包含抽吸区段,用于从离子束源外壳排放气体。可进一步包含控制器,用于根据对应于用于离子束产生的多个种类中的一种类的抽吸参数来控制抽吸区段。

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