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掩模缺陷检查方法及其应用

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN03156085.7
  • IPC分类号:H01L21/66H01L21/00
  • 申请日期:
    2003-08-29
  • 申请人:
    株式会社东芝
著录项信息
专利名称掩模缺陷检查方法及其应用
申请号CN03156085.7申请日期2003-08-29
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2004-04-14公开/公告号CN1489195
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/66IPC分类号H01L21/66;H01L21/00查看分类表>
申请人株式会社东芝申请人地址
日本*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社东芝当前权利人株式会社东芝
发明人山口真司;井上壮一;田中聪;井上麻里
代理机构北京市中咨律师事务所代理人陈海红;段承恩
摘要
一种掩模缺陷检查方法包括关于包括掩模图形的光掩模,就所述掩模图形的多个地点,各自准备根据上述地点上的缺陷对晶片的影响度决定的在所述地点的缺陷检测灵敏度;以及按照所述检测灵敏度,检查所述多个地点上的缺陷。

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