一种机械研磨制备球形超细ε‑CL‑20晶体的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201610903649.3
IPC分类号：B24B31/00;B24B31/14
申请日期：
2016-10-17
申请人：
北京理工大学

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种机械研磨制备球形超细ε‑CL‑20晶体的方法
申请号	CN201610903649.3	申请日期	2016-10-17
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2017-04-05	公开/公告号	CN106553117A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B31/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B31/00 用工件或磨料散放在滚筒内的滚磨装置或其他装置进行工件表面抛光或研磨的机床或装置；及其附件（磨料喷射机械入B24C 3/26）	IPC分类号	B;2;4;B;3;1;/;0;0;;;B;2;4;B;3;1;/;1;4查看分类表>
申请人	北京理工大学	申请人地址	北京市海淀区中关村南大街5号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京理工大学	当前权利人	北京理工大学
发明人	郭学永;张静元;焦清介;张洪垒;李航
代理机构	北京思创毕升专利事务所	代理人	高爽

摘要

本发明公开了一种机械研磨制备球形超细ε‑CL‑20晶体的方法，该方法包括以下步骤：1)将ε‑CL‑20原料与分散液混合均匀，得到ε‑CL‑20浆料；2)将所述ε‑CL‑20浆料输入到填充有研磨球的研磨腔内进行研磨；3)将研磨后的ε‑CL‑20浆料进行抽滤、干燥，得到所述球形超细ε‑CL‑20晶体；所述分散液包含溶剂A和可选的溶剂B，所述溶剂A选自乙醇、三氯甲烷、四氯化碳、正己烷、正庚烷、环己烷、石油醚和ε‑CL‑20重结晶母液中的至少一种，所述溶剂B为水。本发明的方法能够同时实现ε‑CL‑20的圆滑和细化，并且，该方法制备的ε‑CL‑20晶体的纯度高，晶体的圆滑度高，粒度分布均匀。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供