具有采用VHF源的离子分布均匀性控制器的等离子体反应器

发明专利无效专利

申请号：
CN200810000277.9
IPC分类号：H05H1/24;H05H1/46;H01L21/00
申请日期：
2008-01-30
申请人：
应用材料股份有限公司

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专利名称	具有采用VHF源的离子分布均匀性控制器的等离子体反应器
申请号	CN200810000277.9	申请日期	2008-01-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-08-13	公开/公告号	CN101242702
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05H1/24 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05H 等离子体技术（离子束管入H01J 27/00；磁流体发电机入H02K 44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G 2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速（原子钟入G04F 5/14；受激发射器件入H01S；通过与由分子、原子或亚原子粒子的能级所确定的基准频率相比较而进行频率调整的入H03L 7/26） H05H1/00 等离子体的产生；等离子体的处理（等离子体技术在热核聚变反应器的应用入G21B 1/00） H05H1/24 等离子体的产生〔2〕	IPC分类号	H;0;5;H;1;/;2;4;;;H;0;5;H;1;/;4;6;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	应用材料股份有限公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料公司	当前权利人	应用材料公司
发明人	肯尼思·S·柯林斯;塙广二;卡提克·雷马斯瓦米;道格拉斯·A·小布赫伯格;沙希·拉夫;凯洛·贝拉;劳伦斯·黄;沃尔特·R·梅丽;马修·L·米勒;史蒂文·C·香农;安德鲁·阮;詹姆斯·P·克鲁兹;詹姆斯·卡尔杜齐;特洛伊·S·德里克;苏比哈什·德什穆赫;珍妮弗·Y·孙
代理机构	北京律诚同业知识产权代理有限公司	代理人	徐金国

摘要

本发明提供了一种等离子体反应器，所述等离子体反应器包括面向工件支撑底座的顶电极和在底座中的底座电极，以及耦接到所述顶电极和所述底座电极中的相同或不同电极的具有不同频率的第一和第二VHF功率源。所述第一和第二VHF功率源分别具有充分高和充分低的频率，以在腔室内分别生成中心高和中心低的等离子分布非均匀性。所述反应器还包括控制器，该控制器程序化以改变第一和第二VHF功率源的相对输出功率电平以：(a)当等离子体离子分布具有显著的边缘高非均匀性时，增加第一VHF功率源的相对输出功率电平；以及(b)当等离子体离子分布具有显著的中心高非均匀性时，增加第二VHF功率源的相对输出功率电平。

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