用于磁流变流体中磁性颗粒浓度的测量和控制的方法和设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201280029256.4
IPC分类号：B24B1/00;B24B49/00
申请日期：
2012-04-12
申请人：
QED技术国际股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于磁流变流体中磁性颗粒浓度的测量和控制的方法和设备
申请号	CN201280029256.4	申请日期	2012-04-12
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-03-12	公开/公告号	CN103635288A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B1/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B1/00 磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备（以使用专用机床或装置为特征的工艺，见与这些机床或装置相关的位置）〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;1;/;0;0;;;B;2;4;B;4;9;/;0;0查看分类表>
申请人	QED技术国际股份有限公司	申请人地址	美国伊利诺伊州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	QED技术国际股份有限公司	当前权利人	QED技术国际股份有限公司
发明人	W.科唐斯基;K.比德尔;S.戈罗德金;A.塞克雷斯
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	葛青

摘要

用于感测和控制磁流变流体中磁性颗粒浓度的系统包括导线线圈和AC电压发生器，当其被通电时产生包括边缘场的磁通场。当该边缘场延伸穿过磁流变流体时，电路中的阻抗与磁性颗粒的浓度成比例。与感测导线线圈相同的参考导线线圈与感测导线线圈连接。解调器连接到每一个线圈，向反馈控制器发送阻抗差异信号，所述反馈控制权连接到可控分配设备，所述可控分配设备用于将经计算量的补充流体增加到磁流变流体。该系统可包括到集成流体管理模块中，所述模块具有用于接收和补充所用过的磁流变流体的设备、以及根据本发明的传感器系统，该传感器系统用于具有载体轮的磁流变精整系统。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供