紧缩场反射器（反射面）

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专利名称	紧缩场反射器（反射面）
申请号	CN202130401064.3	申请日期	2021-06-28
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	LOC分类号	10-04 查看分类表>
申请人	河北安特磊博微波设备有限公司	申请人地址	河北省邢台市襄都区河北工业大学科技园3号楼1120 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	河北安特磊博微波设备有限公司	当前权利人	河北安特磊博微波设备有限公司
发明人	刘占杰
代理机构	北京高沃律师事务所	代理人	杜阳阳

摘要

1.本外观设计产品的名称：紧缩场反射器（反射面）。2.本外观设计产品的用途：用于天线的电磁特性测量，飞行目标的RCS雷达散射面积大小的测量。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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