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用于薄膜沉积的掩模框架组件

发明专利有效专利

申请号：
CN201210037878.3
IPC分类号：H01L51/56
申请日期：
2012-02-17
申请人：
三星移动显示器株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于薄膜沉积的掩模框架组件
申请号	CN201210037878.3	申请日期	2012-02-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-10-31	公开/公告号	CN102760842A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L51/56 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L51/20 （转入H01L 51/05，H01L 51/42，H01L 51/50） H01L51/50 专门适用于光发射的，如有机发光二极管（OLED）或聚合物发光器件（PLED）（有机半导体激光器入 H01S 5/36）〔8〕 H01L51/56 专门适用于制造或处理这种器件或其部件的方法或设备〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;5;1;/;5;6查看分类表>
申请人	三星移动显示器株式会社	申请人地址	韩国京畿道龙仁市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三星显示有限公司	当前权利人	三星显示有限公司
发明人	洪宰敏
代理机构	北京铭硕知识产权代理有限公司	代理人	刘灿强;王占杰

摘要

本发明公开了一种用于将沉积材料沉积在沉积基底上的掩模框架组件，该掩模框架组件包括：掩模框架，包括开口和围绕开口的多个框架；以及掩模，结合在掩模框架上。防变形单元形成在掩模的至少一个区域上。由于防变形单元形成在掩模中的沉积图案的外围部分上，所以可以减小掩模沿垂直方向的变形。因此，可以减少掩模与基底的有缺陷附着。

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