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一种阵列基板、其静电释放方法及相应装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510673778.3
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L23/60;H01L27/32
  • 申请日期:
    2015-10-16
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称一种阵列基板、其静电释放方法及相应装置
申请号CN201510673778.3申请日期2015-10-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-02-03公开/公告号CN105304645A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;3;/;6;0;;;H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人盖翠丽;李全虎
代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司代理人黄志华
摘要
本发明公开了一种阵列基板、其静电释放方法及相应装置,该阵列基板增加了短路环单元,这样在阵列基板的制作工艺中,蒸镀阴极产生大量的静电时,由于阴极与静电释放回路中的电源信号线相连,因此电源信号线上产生大量静电,此时电源信号线可通过短路环单元将静电快速释放到静电释放回路;而当栅线或数据线上产生静电时,栅线和数据线可通过与其相连的静电释放单元将静电释放到电荷释放信号线上,进而通过与其邻近的短路环单元快速释放到电源信号线,从而将静电快速释放,相对于现有技术需要通过路径较长的静电释放回路进行静电释放,可以避免静电释放不及时的问题,提高了静电释放的效率,提高了阵列基板的性能。

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