阻气性薄膜涂层塑料容器的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200980158667.1
IPC分类号：C23C16/505;B65D1/00;B65D23/02;C23C16/27;C23C16/44
申请日期：
2009-06-25
申请人：
麒麟麦酒株式会社

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著录项信息

专利名称	阻气性薄膜涂层塑料容器的制造方法
申请号	CN200980158667.1	申请日期	2009-06-25
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-03-28	公开/公告号	CN102395706A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/505 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/44 以镀覆方法为特征的（C23C 16/04优先）〔4〕 C23C16/50 借助放电的〔4〕 C23C16/505 采用射频放电〔7〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;5;0;5;;;B;6;5;D;1;/;0;0;;;B;6;5;D;2;3;/;0;2;;;C;2;3;C;1;6;/;2;7;;;C;2;3;C;1;6;/;4;4查看分类表>
申请人	麒麟麦酒株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	麒麟麦酒株式会社	当前权利人	麒麟麦酒株式会社
发明人	中谷正树;清水真里
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	丁香兰;孟伟青

摘要

本发明的目的在于一种涂布有阻气性、膜的呈色性和膜的密合性良好的薄膜的塑料容器的制造，其中不使用特别形状的外部电极、抑制了碳粉等异物的堆积。本发明的阻气性薄膜涂层塑料容器的制造方法具有下述工序：将塑料容器收容在作为成膜单元的外部电极中的工序；在上述塑料容器的内部配置作为原料气体供给管的内部电极的工序；使真空泵运转对上述外部电极内部的气体进行排气的工序；在减压下将原料气体吹出到上述塑料容器的内部的工序；以及，将向上述外部电极供给电力的等离子体发生用电源的电源频率设定为5.5～6.5MHz，使上述原料气体等离子体化，在上述塑料容器的内壁面形成具有阻气性的薄膜的工序。

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