正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200610007166.1
IPC分类号：G03F7/039;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26
申请日期：
2002-11-29
申请人：
东京应化工业株式会社

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著录项信息

专利名称	正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法
申请号	CN200610007166.1	申请日期	2002-11-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2006-10-04	公开/公告号	CN1841199
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/039 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/039 可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F 7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F 7/023）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;G;0;3;F;7;/;1;6;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;2;6查看分类表>
申请人	东京应化工业株式会社	申请人地址	日本神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京应化工业株式会社	当前权利人	东京应化工业株式会社
发明人	岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	陈长会

摘要

提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(B)能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，组分(A)含有：(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有内酯的单环基团或多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有羟基的多环基团；组分(A)还含有结构单元(a4)，由(甲基)丙烯酸酯衍生并含有多环基团，此多环基团不同于含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团、含有内酯的单环基团或多环基团、或含有羟基的多环基团。

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