现场监视等离子体腐蚀装置及方法

发明专利无效专利

申请号：
CN98120050.8
IPC分类号：--
申请日期：
1998-09-28
申请人：
三星电子株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	现场监视等离子体腐蚀装置及方法
申请号	CN98120050.8	申请日期	1998-09-28
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	1999-07-07	公开/公告号	CN1221807
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	三星电子株式会社	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三星电子株式会社	当前权利人	三星电子株式会社
发明人	赵圣範;金学弼;辛银姬;崔百洵
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	谢丽娜

摘要

本发明的现场监视等离子体腐蚀装置包括：工艺室，使用等离子体在其中进行腐蚀工艺；工艺气体提供装置，将工艺气体提供到工艺室内；废气排气装置，工艺室完成工艺后使用泵装置除去废气；采样管，连接到工艺室使用压力差采样工艺室内的气体；和气体分析仪，用于分析来自采样管的采样气体。工艺气体为从采样管连接采样的，并检测腐蚀和清洁工艺的优化工艺方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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