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一种三维NAND型铁电存储器、制作方法及操作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910349696.1
  • IPC分类号:H01L27/11597;G11C11/22
  • 申请日期:
    2019-04-28
  • 申请人:
    中国科学院微电子研究所
著录项信息
专利名称一种三维NAND型铁电存储器、制作方法及操作方法
申请号CN201910349696.1申请日期2019-04-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-07-30公开/公告号CN110071116A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/11597
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;9;7;;;G;1;1;C;1;1;/;2;2查看分类表>
申请人中国科学院微电子研究所申请人地址
北京市朝阳区北土城西路3号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院微电子研究所当前权利人中国科学院微电子研究所
发明人霍宗亮;李春龙;张瑜;洪培真;邹兴奇;靳磊
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人王宝筠
摘要
本发明提供了一种三维NAND型铁电存储器、制作方法及操作方法,该三维NAND型铁电存储器基于现有的铁电存储器结构,在铁电层和介质层之间插入一层辅栅极材料层,构成三维NAND型铁电存储器,单元的栅极叠层为主栅极材料层、铁电层、辅栅极材料层和介质层,配合辅栅极材料层单独对铁电层进行编程和擦除操作,从而有效改善铁电存储器的可靠性,即增大了存储窗口,提高了器件耐久性以及提升了器件的保持特性。

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