增强低阻氯碱电解槽隔膜及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201911417931.0
IPC分类号：C25B13/08;C25B13/02;C25B1/46
申请日期：
2019-12-31
申请人：
山东东岳未来氢能材料有限公司

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著录项信息

专利名称	增强低阻氯碱电解槽隔膜及其制备方法
申请号	CN201911417931.0	申请日期	2019-12-31
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-05-22	公开/公告号	CN111188060A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C25B13/08 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C25 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕 C25B 生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备（阳极或阴极保护入 C23F13/00；单晶生长入C30B）〔2〕 C25B13/00 隔膜；间隔元件〔4〕 C25B13/04 以材料为特征的〔2〕 C25B13/08 以有机材料为基料的〔2〕	IPC分类号	C;2;5;B;1;3;/;0;8;;;C;2;5;B;1;3;/;0;2;;;C;2;5;B;1;/;4;6查看分类表>
申请人	山东东岳未来氢能材料有限公司	申请人地址	山东省淄博市桓台县唐山镇变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	山东东岳高分子材料有限公司	当前权利人	山东东岳高分子材料有限公司
发明人	张永明;雷建龙;薛帅;刘烽;王丽;戴琼;陈静;屈凌波
代理机构	青岛发思特专利商标代理有限公司	代理人	赵真真;耿霞

摘要

本发明涉及一种增强低阻氯碱电解槽隔膜及其制备方法，属于离子交换膜技术领域。本发明所述的电解槽隔膜，包括基膜，基膜的两面设有功能表面涂层，基膜由全氟磺酸聚合物层和全氟羧酸聚合物层组成，全氟磺酸聚合物层内设有增强材料网，全氟磺酸聚合物层内设有镂空隧道；功能表面涂层为全氟离子聚合物构成的多孔粗糙结构。本发明所述的电解槽隔膜，不仅降低了膜体电阻，有利于离子的快速传导，而且降低了膜表面对气泡的粘附力，还提高了膜表面的有效电解面积，减少了局部极化现象，适合在新型高电流密度条件下的零极距电解槽中运行，可显著降低槽电压，降低能耗；本发明同时提供了简单易行的制备方法。

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