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一种具有自退让性的固结磨粒化学机械抛光垫及其制备方法和应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110870723.7
  • IPC分类号:B24B37/22;B24B37/24;B24B37/26;C09G1/02
  • 申请日期:
    2021-07-30
  • 申请人:
    河南科技学院
著录项信息
专利名称一种具有自退让性的固结磨粒化学机械抛光垫及其制备方法和应用
申请号CN202110870723.7申请日期2021-07-30
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-10-26公开/公告号CN113547449A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B37/22IPC分类号B;2;4;B;3;7;/;2;2;;;B;2;4;B;3;7;/;2;4;;;B;2;4;B;3;7;/;2;6;;;C;0;9;G;1;/;0;2查看分类表>
申请人河南科技学院申请人地址
河南省新乡市华兰大道东段河南科技学院机电学院 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人河南科技学院当前权利人河南科技学院
发明人苏建修;王占奎;李勇峰;张亚奇;冯宜鹏;逄明华;付成果;刘海旭
代理机构北京高沃律师事务所代理人刘丹丹
摘要
本发明涉及超精密加工技术领域,尤其涉及一种具有自退让性的固结磨粒化学机械抛光垫及其制备方法和应用。本发明的固结磨粒化学机械抛光垫包括纹理层和基体层;纹理层中含有退让剂,配合基体层的压缩功能,使固结磨粒在抛光压力下具有较强的退让性,磨粒可实现随抛光压力的变化而上下退让,解决了磨粒尺寸不一致、磨粒的凸刃高度不同问题;可实现加工过程中每个磨粒的切深均匀一致,进而减少或避免了大尺寸磨粒产生表面划痕的可能性;同时提高了单位时间内参与化学机械抛光的磨粒数量,不仅可提高生产效率及表面质量,还可有效实现塑性域加工,降低生产成本,可用于SiC单晶及其他硬脆性晶体材料、光学材料的大面积精密化学机械抛光。

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