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一种可避免出现蓝膜的凸点制作方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710038218.6
  • IPC分类号:H01L21/60
  • 申请日期:
    2007-03-20
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称一种可避免出现蓝膜的凸点制作方法
申请号CN200710038218.6申请日期2007-03-20
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-09-24公开/公告号CN101271852
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/60IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;0查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人孙支柱;王重阳;章剑名;陈杰
代理机构上海智信专利代理有限公司代理人王洁
摘要
本发明提供一种可避免出现蓝膜的凸点制作方法。现有的凸点制作方法采用低温的硫酸溶液进行刻蚀来去除凸点下金属层,虽能去除凸点下金属层,但易生成蓝膜。本发明的可避免出现蓝膜的凸点制作方法先在已制作有金属垫和钝化层的晶圆上沉积一凸点下金属层,然后涂敷一光阻层并通过光刻和显影将凸点图形转移到光阻层上,之后制作凸点,接着去除光阻,之后通过硫酸溶液进行刻蚀,以去除非凸点覆盖下的凸点下金属层,最后对该凸点进行回流,其中,在通过硫酸溶液进行刻蚀,以去除非凸点覆盖下的凸点下金属层的步骤中刻蚀温度不低于35摄氏度,刻蚀时间不少于310秒。采用本发明的方法可避免在制作凸点时出现蓝膜。

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