沉积装置、沉积设备及其操作方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201380081379.7
IPC分类号：C23C14/14;C23C14/24;C23C14/54;B01D1/00
申请日期：
2013-12-06
申请人：
应用材料公司

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著录项信息

专利名称	沉积装置、沉积设备及其操作方法
申请号	CN201380081379.7	申请日期	2013-12-06
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2016-08-17	公开/公告号	CN105874095A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/14 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/06 以镀层材料为特征的（C23C 14/04优先）〔4〕 C23C14/14 金属材料、硼或硅〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;1;4;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;B;0;1;D;1;/;0;0查看分类表>
申请人	应用材料公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料公司	当前权利人	应用材料公司
发明人	乌韦·许斯勒;斯蒂芬·班格特;卡尔·阿尔伯特·凯姆;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
代理机构	北京律诚同业知识产权代理有限公司	代理人	徐金国;赵静

摘要

本发明揭露一种用于蒸发材料及用于将所述材料沉积于基板上的沉积装置，所述材料包括碱金属或碱土金属。沉积装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置为用于使材料液化，其中第一腔室包括气体入口，所述气体入口被配置为用于使气体进入第一腔室；蒸发区域，所述蒸发区域被配置为用于使液化的材料蒸发；管线，提供第一腔室与蒸发区域之间的用于液化的材料的流体连通，其中管线包含第一部分，所述第一部分限定管线的流动阻力；阀，所述阀被配置为用于控制第一腔室中的气体的流率而用于控制通过具有所述流动阻力的管线的液化的材料的流率；及一或多个出口，用于将蒸发的材料引向基板。

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