光学元件内凹面抛光方法及装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200810223239.X
IPC分类号：B24B13/00;B24B1/00;C09G1/02
申请日期：
2008-09-28
申请人：
清华大学

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光学元件内凹面抛光方法及装置
申请号	CN200810223239.X	申请日期	2008-09-28
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2009-01-28	公开/公告号	CN101352826
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B13/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B13/00 为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件（光学工件如透镜，棱镜磨边入B24B 9/14）〔2〕	IPC分类号	B;2;4;B;1;3;/;0;0;;;B;2;4;B;1;/;0;0;;;C;0;9;G;1;/;0;2查看分类表>
申请人	清华大学	申请人地址	北京市-82信箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	清华大学	当前权利人	清华大学
发明人	冯之敬;左巍;辛科;张云
代理机构	北京众合诚成知识产权代理有限公司	代理人	张文宝

摘要

本发明属于精密光学抛光加工技术领域，特别涉及一种光学元件内凹面抛光方法及装置。待加工工件内凹面下方固定一个和待加工内凹面形状吻合的带有槽路的芯模，工件绕自身回转轴旋转并保持与芯模一个微小间隙，并通过外磁极工具头及内磁极激励线圈对加工区域施加磁场，带有抛光磨料的磁流变液沿槽路流经加工区域时在磁场作用下形成柔性抛光头吸附于内凹面并产生抛光作用。本发明可以实现小曲率半径或具有深腔结构的共形光学元件及其它回转对称高陡度非球面的内凹面抛光，并可以采用计算机控制抛光去除分布，具备抛光面形控制能力，兼有高精度高表面质量的优点。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供