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一种具有多沟槽的LIGBT器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010535106.7
  • IPC分类号:H01L29/06;H01L29/739;H01L21/331
  • 申请日期:
    2020-06-12
  • 申请人:
    电子科技大学
著录项信息
专利名称一种具有多沟槽的LIGBT器件
申请号CN202010535106.7申请日期2020-06-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-09-08公开/公告号CN111640786A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/06IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;7;3;9;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;1查看分类表>
申请人电子科技大学申请人地址
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人电子科技大学当前权利人电子科技大学
发明人李泽宏;王志明;程然;蒲小庆;胡汶金;任敏;张金平;高巍;张波
代理机构成都点睛专利代理事务所(普通合伙)代理人霍淑利
摘要
本发明涉及一种具有多沟槽的LIGBT器件,属于功率半导体技术领域。本发明提供的一种具有多沟槽的LIGBT器件,通过沟槽刻蚀改变第二导电类型体区形貌,实现体区均匀分布的掺杂,可以改善第一导电类型漂移区与第二导电类型体区接触的结的形貌,以此来优化漂移区与体区接触区域的电场分布,提高器件的反向阻断电压以及过电流能力,同时也可以减小芯片面积。

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