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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

半导体装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980092982.2
  • IPC分类号:H01L29/872;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/861;H01L29/868
  • 申请日期:
    2019-03-13
  • 申请人:
    三菱电机株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置
申请号CN201980092982.2申请日期2019-03-13
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-10-15公开/公告号CN113508470A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/872
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;8;7;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;8;6;1;;;H;0;1;L;2;9;/;8;6;8查看分类表>
申请人三菱电机株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三菱电机株式会社当前权利人三菱电机株式会社
发明人汤田洋平;绵引达郎
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人金春实
摘要
目的在于提供能够提高半导体装置的电气特性的技术。半导体装置是设置有半导体元件的半导体装置,具备:n型单晶氧化镓层,具有第一主面;电极,是半导体元件的电极,配设于n型单晶氧化镓层的第一主面上或第一主面上方;p型氧化物半导体层,配设于n型单晶氧化镓层与电极之间;以及非晶氧化镓层,配设于n型单晶氧化镓层与p型氧化物半导体层之间。

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