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探测缺陷的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN02826503.3
IPC分类号：G01N21/956;G06T7/00;H01L21/66;G01R31/26
申请日期：
2002-11-25
申请人：
应用材料有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	探测缺陷的方法
申请号	CN02826503.3	申请日期	2002-11-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2005-04-27	公开/公告号	CN1610826
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/956 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/84 专用于特殊应用的系统〔3〕 G01N21/88 测试瑕疵、缺陷或污点的存在〔3〕 G01N21/95 特征在于待测物品的材料或形状（G01N 21/89至G01N 21/91，G01N 21/94优先）〔7〕 G01N21/956 检测物品表面上的图案〔7〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;9;5;6;;;G;0;6;T;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6;;;G;0;1;R;3;1;/;2;6查看分类表>
申请人	应用材料有限公司	申请人地址	美国加利福尼亚变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料有限公司	当前权利人	应用材料有限公司
发明人	伊维格尼·莱文;耶胡达·科恩
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	秦晨

摘要

一种检查衬底以寻找缺陷的方法，包含：(a)获得已检像素和参考像素；(b)计算已检值和参考值，已检值代表已检像素而参考值代表参考像素；(c)根据从已检值和参考值中产生出的选定值选择阈值；以及(d)确定选定阈值、参考值和已检值之间的关系以指示缺陷的存在。

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