一种卧轴矩台平面磨床平面度在位测量系统

发明公开无效专利

申请号：
CN201510394742.1
IPC分类号：B24B49/10
申请日期：
2015-07-07
申请人：
沈阳理工大学

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著录项信息

专利名称	一种卧轴矩台平面磨床平面度在位测量系统
申请号	CN201510394742.1	申请日期	2015-07-07
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2015-12-30	公开/公告号	CN105196179A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B49/10 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B49/00 用于控制磨具或工件进给运动的测量或校准装置；指示或测量装置的布置，如用于指示磨削加工开始的（B24B 33/06，B24B 37/005优先；如果适合于其他机床，B23Q 15/00到B23Q 17/00优先）〔1，2012.01〕 B24B49/10 使用电装置（B24B 49/02，B24B 49/08优先）	IPC分类号	B;2;4;B;4;9;/;1;0查看分类表>
申请人	沈阳理工大学	申请人地址	辽宁省沈阳市浑南新区南屏中路6号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沈阳理工大学	当前权利人	沈阳理工大学
发明人	刘玉梅; 王建奇
代理机构	沈阳火炬专利事务所	代理人	李福义

摘要

本发明提供了一种卧轴矩台平面磨床平面度在位测量系统，将传感器阵列直接安装在随机床运动的传感器卡具上，使得多个传感器测头按特定布局和走线路径对被测基座平面的平面度进行在位测量，运用误差分离技术消除分离测量基准误差，即导轨运动副误差和传感器测头初始位置偏差，得到被测工件真实形状误差，从而得到最终平面度误差值大小。本发明提高了测量精度，减少了测量检测的中间辅助环节，提高了生产效率，降低了成本。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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