加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

硅片生产系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510072543.9
  • IPC分类号:H01L31/18
  • 申请日期:
    2015-02-11
  • 申请人:
    英利集团有限公司;英利能源(中国)有限公司;保定天威英利新能源有限公司;河北流云新能源科技有限公司
著录项信息
专利名称硅片生产系统
申请号CN201510072543.9申请日期2015-02-11
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2016-10-05公开/公告号CN105990468A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/18IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人英利集团有限公司;英利能源(中国)有限公司;保定天威英利新能源有限公司;河北流云新能源科技有限公司申请人地址
河北省保定市恒源西路56号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英利集团有限公司,英利能源(中国)有限公司,保定天威英利新能源有限公司,保定嘉盛光电科技股份有限公司当前权利人英利集团有限公司,英利能源(中国)有限公司,保定天威英利新能源有限公司,保定嘉盛光电科技股份有限公司
发明人赵鹏
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司代理人吴贵明;张永明
摘要
本发明提供了一种硅片生产系统。该硅片生产系统包括:湿法刻蚀设备,湿法刻蚀设备包括设备排风部与热风干燥槽,热风干燥槽具有硅片传送入口和硅片传送出口;臭氧氧化设备,设置在热风干燥槽的下游,且臭氧氧化设备通过硅片传送出口与热风干燥槽连通;湿法刻蚀设备还包括:隔板,设置在热风干燥槽与设备排风部之间以至少部分地将二者隔离,使热风干燥槽内的气压大于等于臭氧氧化设备内的气压。应用本发明的技术方案可以解决现有技术中臭氧与硅片提前反应并再经过滚轮的碾压而导致硅片表面的氧化层的薄厚不均的问题。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供