著录项信息
专利名称 | 具有可调式反射成分的多层式光电感光体 |
申请号 | CN03155863.1 | 申请日期 | 2003-08-25 |
法律状态 | 撤回 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 2005-03-09 | 公开/公告号 | CN1591203 |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | 暂无 | IPC分类号 | 暂无查看分类表>
|
申请人 | 光华开发科技股份有限公司 | 申请人地址 | 台湾省新竹市
变更
专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效 |
权利人 | 光华开发科技股份有限公司 | 当前权利人 | 光华开发科技股份有限公司 |
发明人 | 刘明辉;杨振仁 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王一斌 |
摘要
本发明提供一种多层式光电感光体,其包括一导电基材、在导电基材上的一底层、以及在底层上的一电荷发生层和一电荷传递层。底层包括一高分子载体和一可调式反射成分,可调式反射成分包括光吸收材料、光散射颗粒、或上述两者的混合物。本发明亦提供一种调整光电感光体的反射率的方法,是改变可调式反射成分的浓度,或改变底层的涂布厚度,以调整光电感光体的反射率。如此,将本发明的光电感光体应用在激光打印机、发光二极管打印机及复印机中时,可以精确控制光电感光体表面的光反射率,借以获得精准的全彩图像对位结果。
1.一种多层式光电感光体,其特征在于:所述多层式光电感光体 包括:
一导电基材、在该导电基材上的一底层、以及在该底层上的一电荷发 生层和一电荷传递层,其中该底层包括一高分子载体和一可调式反射成 份,该可调式反射成份包括光吸收材料、或光散射颗粒、或上述两者的 混合物。
2.根据权利要求1所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体底层组成中的光吸收材料为有机颜料。
3.根据权利要求2所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体光吸收材料为α型铜酞花菁(α-type CuPc)、β型铜 酞花菁、非晶型铜酞花菁、α型氧化钛酞花菁(α-type TiOPc)、β型氧 化钛酞花菁、非晶型氧化钛酞花菁、2,7-双(3-(2-氯苯胺羧基)-2-羟基 萘-1-偶氮)芴-9-酮、或2,7-双(3-(2-氟苯胺羧基)-2-羟基萘-1-偶氮) 芴-9-酮。
4.根据权利要求1所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体底层组成中的光散射颗粒为二氧化钛。
5.根据权利要求1所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体底层组成中高分子载体与可调式反射成份的重量比范 围为1∶10至20∶1。
6.根据权利要求1所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体可调式反射成份包括光吸收材料和光散射颗粒。
7.根据权利要求6所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体底层组成中的光吸收材料与光散射颗粒的重量比范围 为1∶5至1∶100。
8.根据权利要求1所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体底层组成中可调式反射成份的粒径范围在0.05μm至1 μm之间。
9.根据权利要求1所述的多层式光电感光体,其特征在于:所述 多层式光电感光体底层的涂布厚度范围为0.5μm至30μm之间。
10.一种光电显像设备,包括一多层式光电感光体,其特征在于: 所述多层式光电感光体包括:
一导电基材、在该导电基材上的一底层、以及在该底层上的一电荷发 生层和一电荷传递层,其中该底层包括一高分子载体和一可调式反射成 份,该可调式反射成份包括光吸收材料、光散射颗粒、或上述两者的混 合物。
11.根据权利要求10所述的光电显像设备,其特征在于所述光电显 像设备为一彩色打印机或复印机。
12.一种调整一光电感光体的反射率的方法,其中该光电感光体包 括一导电基材、在该导电基材上的一底层、以及在该底层上的一电荷发 生层和一电荷传递层,其中该底层包括一高分子载体和一可调式反射成 份,
其中该方法包括:改变该可调式反射成份的浓度,以调整该光电感光 体的反射率。
13.根据权利要求12所述的方法,其中该方法包括改变该可调式反 射成份的浓度,以调整该光电感光体的反射率,使其符合一光电显像设 备的内设既定的反射率范围。
14.根据权利要求12所述的方法,其中该光电显像设备为一彩色光 电显像设备。
15.根据权利要求14所述的方法,其中该光电显像设备为一彩色打 印机或复印机。
16.根据权利要求12所述的方法,其中该可调式反射成份包括一光 吸收材料,该方法包括改变该光吸收材料的浓度。
17.根据权利要求16所述的方法,其中该方法包括增加该光吸收材 料的浓度,以降低该光电感光体的反射率,或者减少该光吸收材料的浓 度,以提高该光电感光体的反射率。
18.根据权利要求12所述的方法,其中该可调式反射成份包括一光 散射颗粒,该方法包括改变该光散射颗粒的浓度。
19.根据权利要求18所述的方法,其中该方法包括增加该光散射颗 粒的浓度,以降低该光电感光体的反射率,或者减少该光散射颗粒的浓 度,以提高该光电感光体的反射率。
20.根据权利要求12所述的方法,其中该可调式反射成份包括一光 吸收材料和一光散射颗粒,该方法包括改变该光吸收材料和光散射颗粒 的浓度。
21.一种调整一光电感光体的反射率的方法,其中该光电感光体包 括一导电基材、在该导电基材上的一底层、以及在该底层上的一电荷发 生层和一电荷传递层,其中该底层包括一高分子载体和一可调式反射成 份,
其中该方法包括:改变该底层的涂布厚度,以调整该光电感光体的反 射率。
22.根据权利要求21所述的方法,其中该方法包括增加该底层的涂 布厚度,以降低该光电感光体的反射率,或者减少该底层的涂布厚度, 以增加该光电感光体的反射率。
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有引用任何外部专利数据! |
被引用专利(该专利被哪些专利引用)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 1 | | 2006-04-06 | 2006-04-06 | | |