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制备间隔可调的纳电极的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410064945.6
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2004-10-14
  • 申请人:
    中国科学技术大学
著录项信息
专利名称制备间隔可调的纳电极的方法
申请号CN200410064945.6申请日期2004-10-14
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2005-03-02公开/公告号CN1588626
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人中国科学技术大学申请人地址
安徽省合肥市金寨路96号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学技术大学当前权利人中国科学技术大学
发明人张琨;王晓平;侯建国
代理机构南京经纬专利商标代理有限公司代理人叶连生
摘要
制备间隔可调的纳电极的方法涉及纳米电极的加工和纳米制备,制备方法为:先在二氧化硅衬底上涂聚甲基丙烯酸甲酯/聚甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酰胺双层胶,用电子束在该表面生成刻蚀槽,再向该表面蒸发金,在槽中形成金纳米线,将金纳米线与电阻、可调的直流电源和电流表串联,在金纳米线两端施加电压,调整电压大小使得流过金纳米线的电流强度为预设值,然后等待至电流突然降为零,此时金纳米线已经从中间处断开,断口处形成电极。电流强度预设值为0<I<10毫安。金纳米线厚度大于20纳米,小于50纳米,金纳米线的宽度在50~500纳米之间。

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