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一种宽谱超快非线性光学响应性能的多层金属陶瓷薄膜及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510708770.6
  • IPC分类号:G02B5/00;C23C14/35;C23C14/08
  • 申请日期:
    2015-10-27
  • 申请人:
    中国科学院宁波材料技术与工程研究所
著录项信息
专利名称一种宽谱超快非线性光学响应性能的多层金属陶瓷薄膜及其制备方法
申请号CN201510708770.6申请日期2015-10-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-01-13公开/公告号CN105242334A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/00IPC分类号G;0;2;B;5;/;0;0;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8查看分类表>
申请人中国科学院宁波材料技术与工程研究所申请人地址
浙江省宁波市镇海区庄市大道519号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院宁波材料技术与工程研究所当前权利人中国科学院宁波材料技术与工程研究所
发明人高俊华;曹鸿涛;惠帅;王小雨
代理机构杭州天勤知识产权代理有限公司代理人刘诚午
摘要
本发明公开了一种宽谱超快非线性光学响应性能的多层金属陶瓷薄膜,自基底向外依次包括第一金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、第一陶瓷层、第二金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、第二陶瓷层、直至第n金属纳米线阵列‑陶瓷复合层和第n陶瓷层,所述的第n陶瓷层为陶瓷钝化层,所述的2≤n≤5;所述的金属纳米线包括金、铂、银、铜或铝纳米线;所述的陶瓷包括氧化物、氮化物、碳化物或硼化物;所述陶瓷钝化层为氧化物、氮化物、碳化物或硼化物钝化层。该方法的优势在于对衬底材料导电能力不作要求,在绝缘、导电、半导体等各类型衬底上均可制备,便于复合薄膜与其它功能部件集成制备,拓宽超快非线性光学响应薄膜的应用空间。

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