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氮化镓高电子迁移率晶体管I‑V模型参数的提取方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410800156.8
  • IPC分类号:G06F19/00;G06F17/50
  • 申请日期:
    2014-12-20
  • 申请人:
    电子科技大学
著录项信息
专利名称氮化镓高电子迁移率晶体管I‑V模型参数的提取方法
申请号CN201410800156.8申请日期2014-12-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-04-29公开/公告号CN104573330A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06F19/00IPC分类号G;0;6;F;1;9;/;0;0;;;G;0;6;F;1;7;/;5;0查看分类表>
申请人电子科技大学申请人地址
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人电子科技大学当前权利人电子科技大学
发明人徐跃杭;闻彰;汪昌思;赵晓冬;徐锐敏
代理机构电子科技大学专利中心代理人李明光
摘要
本发明公开了一种基于氮化镓高电子迁移率晶体管(GaNHEMT)的电流‑电压(I‑V)模型参数提取方法。本发明方法首先根据I‑V模型参数的物理意义,对模型参数进行分块,降低I‑V模型的复杂度,再通过拟合实测脉冲I‑V和静态I‑V的转移特性曲线,提取相应分块的模型参数。与传统的参数提取方法相比,本发明方法可以快速准确地完成I‑V模型的参数提取,大大提高了器件建模的效率。

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