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一种四元硫化物半导体材料及其制备方法和用途

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710967035.6
  • IPC分类号:C30B29/46;C30B7/14;C30B28/04;H01L31/032
  • 申请日期:
    2015-03-31
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称一种四元硫化物半导体材料及其制备方法和用途
申请号CN201710967035.6申请日期2015-03-31
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-02-23公开/公告号CN107723799A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B29/46IPC分类号C;3;0;B;2;9;/;4;6;;;C;3;0;B;7;/;1;4;;;C;3;0;B;2;8;/;0;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;2查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人刘毅;沈亚英;刘畅;候佩佩;洪樟连
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人傅朝栋;张法高
摘要
本发明公开了一种四元硫化物半导体材料及其制备方法和用途。以碱金属化合物、金属铜、二元固溶体硫化锑和单质硫为原料,水合肼和聚乙二醇为溶剂,在120‑190℃烘箱中反应4‑9天,得到四元硫化物半导体材料。化学组成式为:RbCuSb2S4,属于单斜晶系,空间群是C12/c1,β=105.75°,Z=4,能隙为1.74eV。本方法具有操作过程简单,原料成本低,反应条件温和,合成温度低等优点。采用本方法得到的四元硫化物,产率可达到60%‑90%,晶粒尺寸为150‑300μm,化学纯度高,用于制备光学半导体器件。

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