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垂直磁记录介质及其制造方法以及磁记录系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710153186.4
  • IPC分类号:G11B5/66;G11B5/73
  • 申请日期:
    2007-09-28
  • 申请人:
    富士通株式会社
著录项信息
专利名称垂直磁记录介质及其制造方法以及磁记录系统
申请号CN200710153186.4申请日期2007-09-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-04-30公开/公告号CN101169939
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11B5/66IPC分类号G;1;1;B;5;/;6;6;;;G;1;1;B;5;/;7;3查看分类表>
申请人富士通株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昭和电工株式会社当前权利人昭和电工株式会社
发明人安东尼·阿扬
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人张龙哺
摘要
本发明提供一种垂直磁记录介质及其制造方法以及磁记录系统。其中在垂直介质中,将形成为多晶铁磁层的、包含铁、钴和/或镍的晶化铁磁层用作反平行软衬层(APS-SUL)结构的一部分,以减少中间层的厚度。软衬层结构由非磁性间隔层组成,该非磁性间隔层的厚度被调整为在两个铁磁层之间形成有效的反平行耦合。在由非晶铁磁层形成的下层与由非晶铁磁层和多晶铁磁层形成的上层之间的反平行方向上形成磁耦合。剩磁中软衬层的有效磁化强度为零。多晶铁磁层的厚度优选为1nm至20nm。中间层(例如钌层)直接形成在磁性多晶软衬层上,厚约10nm至20nm。记录磁层和保护层形成在中间层上。本发明能够在降低噪声的同时获得更高的可写性。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供