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一种受污染场地垂直阻隔系统

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202021744082.8
  • IPC分类号:B09C1/00;E02D31/00
  • 申请日期:
    2020-08-19
  • 申请人:
    北京首创环境科技有限公司
著录项信息
专利名称一种受污染场地垂直阻隔系统
申请号CN202021744082.8申请日期2020-08-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B09C1/00IPC分类号B;0;9;C;1;/;0;0;;;E;0;2;D;3;1;/;0;0查看分类表>
申请人北京首创环境科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区西坝河东里18号中检大厦12层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京首创环境科技有限公司当前权利人北京首创环境科技有限公司
发明人常跃畅;葛亚军;曹占强;戴小东;董健;杨槟赫;宗宇坤;孙晓东;刘明达;张许
代理机构北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)代理人于晶晶
摘要
本实用新型公开了一种受污染场地垂直阻隔系统,其包括地下连续墙、高压旋喷咬合桩,所述地下连续墙环绕受污染场地垂直设置,所述高压旋喷咬合桩设置多个,各高压旋喷咬合桩分布于相邻地下连续墙接缝内侧及拐点阴角处。本发明提供的受污染场地垂直阻隔系统主要由地下连续墙、高压旋喷咬合桩共同组成满足防渗要求的阻隔系统,具有适用地质条件广、技术可靠、易于工程化实施的特点。

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