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铟镓砷台面列阵探测器芯片的台面钝化膜及制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710171389.6
  • IPC分类号:H01L31/105;H01L31/18
  • 申请日期:
    2007-11-30
  • 申请人:
    中国科学院上海技术物理研究所
著录项信息
专利名称铟镓砷台面列阵探测器芯片的台面钝化膜及制备方法
申请号CN200710171389.6申请日期2007-11-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-04-30公开/公告号CN101170145
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/105IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;0;5;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人中国科学院上海技术物理研究所申请人地址
上海市玉田路500号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海技术物理研究所当前权利人中国科学院上海技术物理研究所
发明人张可锋;唐恒敬;吴小利;徐国庆;李雪;朱龙源;龚海梅
代理机构上海新天专利代理有限公司代理人郭英
摘要
本发明公开了一种铟镓砷台面阵列探测器芯片的台面钝化膜及制备方法,其特征在于:所述的台面钝化膜是通过阳极氧化在台面列阵的上表面和侧面自生成的一层氧化物钝化膜。钝化膜的生成采用pH值为9的0.1mol/L的KOH溶液和逐步的升高电压的方式,使所形成的钝化膜具有良好的绝缘性、粘附性、优化了器件的表面特性,减小了表面和侧面的复合,进而减小暗电流,提高了探测器的量子效率、响应率和探测率。

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