用于离子注入的组合静电透镜系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201580070493.9
IPC分类号：H01J37/20;H01J37/12;H01J37/05;H01J37/147;H01J37/317
申请日期：
2015-12-28
申请人：
艾克塞利斯科技公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于离子注入的组合静电透镜系统
申请号	CN201580070493.9	申请日期	2015-12-28
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-08-29	公开/公告号	CN107112181A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/20 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/02 零部件 H01J37/20 物体或材料的支承或定位装置；与支架相联的光阑或透镜的调整装置	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;2;0;;;H;0;1;J;3;7;/;1;2;;;H;0;1;J;3;7;/;0;5;;;H;0;1;J;3;7;/;1;4;7;;;H;0;1;J;3;7;/;3;1;7查看分类表>
申请人	艾克塞利斯科技公司	申请人地址	美国马萨诸塞州比佛利市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	艾克塞利斯科技公司	当前权利人	艾克塞利斯科技公司
发明人	爱德华·C·艾伊斯勒;伯·范德伯格
代理机构	北京中原华和知识产权代理有限责任公司	代理人	刘新宇;寿宁

摘要

本发明提出用于以低能量将离子注入工件内的系统及方法。提供配置成生成离子束的离子源，其中，质量解析磁体被配置成质量解析该离子束。离子束可以是带状射束或经扫描的点状离子束。定位于质量解析磁体下游的质量解析孔径过滤离子束中的不良粒种。组合静电透镜系统被定位于质量分析器的下游，其中，使离子束的路径偏转并且大体上滤除离子束中的污染物，同时使离子束减速并平行化。工件固持与平移系统进一步被定位于组合静电透镜系统的下游并被配置成选择性使工件在一个或多个方向上平移通过离子束，在其中将离子注入工件内。

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