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显示基板及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110587544.2
  • IPC分类号:H01L51/52;H01L51/56;H01L23/544;H01L27/32
  • 申请日期:
    2021-05-27
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称显示基板及其制备方法
申请号CN202110587544.2申请日期2021-05-27
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-24公开/公告号CN113299860A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/52IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;5;2;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6;;;H;0;1;L;2;3;/;5;4;4;;;H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人于池;石博;黄炜赟
代理机构北京安信方达知识产权代理有限公司代理人解婷婷;曲鹏
摘要
本公开实施例提供了一种显示基板及其制备方法,所述显示基板包括显示区和外围区,所述外围区包括标记区,所述标记区包括设置在基底上的至少一个标记结构,所述标记结构包括光调整层和标记层,在平行于所述基底方向上,所述光调整层邻近所述标记层的边缘与所述标记层邻近所述光调整层的边缘的距离在预设范围内,所述光调整层用于实现干涉相消。本公开实施例通过设置光调整层用于调整光线反射的光程差,利用干涉原理减轻对位标记反光造成的衍射问题,提高对对位标记的识别能力。

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