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一种用于磷化铟单晶生长的装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110855053.1
  • IPC分类号:C30B29/40;C30B13/32;C30B13/02
  • 申请日期:
    2021-07-26
  • 申请人:
    中锗科技有限公司
著录项信息
专利名称一种用于磷化铟单晶生长的装置及方法
申请号CN202110855053.1申请日期2021-07-26
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-10-19公开/公告号CN113512760A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B29/40IPC分类号C;3;0;B;2;9;/;4;0;;;C;3;0;B;1;3;/;3;2;;;C;3;0;B;1;3;/;0;2查看分类表>
申请人中锗科技有限公司申请人地址
江苏省南京市溧水开发区中兴东路9号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中锗科技有限公司当前权利人中锗科技有限公司
发明人罗福敏;柯尊斌;王卿伟
代理机构南京中律知识产权代理事务所(普通合伙)代理人李建芳
摘要
本发明公开了一种用于磷化铟单晶生长的装置及方法,用于磷化铟单晶生长的装置,包括筒体、承接座、加热器、坩埚托和石英管;筒体侧壁的顶部和底部分别开设有上、下气孔;筒体内侧设有两根竖直、且相对设置的导轨;筒体的顶部和底部分别使用上、下法兰面密封;承接座设在筒体内的下法兰上;加热器为四区的圆柱形电阻加热器;加热器的两侧分别通过连接件滑动连接在两根导轨上;承接座上设有电机,电机驱动加热器沿导轨上下移动;坩埚托安装在承接座上、且从加热器底部伸入加热器内侧,加热器可相对坩埚托上下移动;石英管位于加热器内侧的坩埚托上,石英管的顶部用石英帽密封。本发明降低了单晶的生长温度,显著提高了单晶质量和成晶率。

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