化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201080051174.0
IPC分类号：C09G1/02;C09K3/14;H01L21/3105
申请日期：
2010-11-08
申请人：
可乐丽股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法
申请号	CN201080051174.0	申请日期	2010-11-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-09-12	公开/公告号	CN102666760A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2;;;C;0;9;K;3;/;1;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;0;5查看分类表>
申请人	可乐丽股份有限公司	申请人地址	日本冈山县仓敷市酒津1621番地变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	可乐丽股份有限公司	当前权利人	可乐丽股份有限公司
发明人	竹越穣;加藤充;冈本知大;加藤晋哉
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	高旭轶;郭文洁

摘要

本发明提供化学机械抛光用浆料和使用该浆料的基板的抛光方法，所述化学机械抛光用浆料包含水溶性包合化合物(a)、具有任选为盐形式的酸性基团作为侧链的高分子化合物(b)、抛光研磨粒料(c)和水(d)，其中，水溶性包合化合物(a)的含量是浆料总量的0.001质量%-3质量%，高分子化合物(b)具有1,000以上且小于1,000,000的重均分子量，并且高分子化合物(b)的含量是浆料总量的0.12质量%-3质量%。

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