适合氧化镓衬底基片抛光的专用抛光液及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510335344.2
IPC分类号：C09G1/02
申请日期：
2015-06-16
申请人：
盐城工学院

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著录项信息

专利名称	适合氧化镓衬底基片抛光的专用抛光液及其制备方法
申请号	CN201510335344.2	申请日期	2015-06-16
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2015-11-11	公开/公告号	CN105038606A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2查看分类表>
申请人	盐城工学院	申请人地址	江苏常熟新材料产业园盛虞大道26号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	常熟耐素生物材料科技有限公司	当前权利人	常熟耐素生物材料科技有限公司
发明人	黄传锦;周海;顾斌;刘道标;惠学芹;吴进
代理机构	苏州创元专利商标事务所有限公司	代理人	范晴;程东辉

摘要

本发明公开了一种适合氧化镓衬底基片抛光的专用抛光液以及该抛光液的制备方法，其制备方法为：先把1质量份的络合剂、0.5～1.5质量份的pH值调节剂和1质量份的pH稳定剂溶解于47～47.5质量份的去离子水中，待所述络合剂、pH值调节剂和pH稳定剂充分溶解后，再将0.5质量份的表面活性剂和0.1质量份的消泡剂也溶解于所述去离子水中，待所述表面活性剂和消泡剂也充分溶解后，将得到的混合溶液缓慢滴加到不断搅拌的50质量份的硅溶胶乳液中。使用本发明这种抛光液能够制作出无损伤、超光滑、超洁净的氧化镓衬底。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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