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具有可调双频分压的等离子体反应器

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02815981.0
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2002-08-15
  • 申请人:
    应用材料有限公司
著录项信息
专利名称具有可调双频分压的等离子体反应器
申请号CN02815981.0申请日期2002-08-15
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2004-11-03公开/公告号CN1543662
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人应用材料有限公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料有限公司当前权利人应用材料有限公司
发明人M·S·巴恩斯;J·霍兰;A·佩特森;V·托多罗夫;F·穆加达姆
代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司代理人赵蓉民
摘要
提供一种用于处理衬底的设备和方法。用于处理衬底的所述设备包括具有第一电极的室;设置在所述室内并提供第二电极的衬底支架;与所述第一电极或所述第二电极电连接的高频电源;与所述第一电极或所述第二电极电连接的低频电源;并且与一个或多个所述电极之间的可变阻抗元件连接。所述可变阻抗元件可以被调节,以便控制在所述第一电极和所述第二电极之间的自偏置分压。本发明的实施例充分地减少所述电极的腐蚀,保持工艺均匀性、提高用于形成高高宽比亚四分之一微米互连特征结构的蚀刻工艺的精度,并且提供提高的蚀刻率,这缩短集成电路的生产时间并降低生产成本。

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