一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备及方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201510042530.7
IPC分类号：C23C14/32;C23C8/36;C23C28/04
申请日期：
2015-01-27
申请人：
大连理工常州研究院有限公司

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专利名称	一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备及方法
申请号	CN201510042530.7	申请日期	2015-01-27
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2015-04-29	公开/公告号	CN104561910A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/32 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕 C23C14/32 爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法（C23C 14/34至C23C 14/48优先）〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;2;;;C;2;3;C;8;/;3;6;;;C;2;3;C;2;8;/;0;4查看分类表>
申请人	大连理工常州研究院有限公司	申请人地址	江苏省常州市武进区常武中路801号常州科教城变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大连理工常州研究院有限公司	当前权利人	大连理工常州研究院有限公司
发明人	林国强;韩治昀;魏科科
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备及方法，属于材料表面改性技术领域，该设备中，包括真空腔室，工件偏压电源正极与真空腔室相连；真空腔室壁上固定安装有热丝装置，热丝装置的负极与热丝偏压电源负极相连，真空腔室上固定安装有增强过滤阴极弧源，在真空条件下，2引发电离形成增强放电的气体等离子体对工件渗氮，重复Ar离子清洗和电弧离子镀制备硬质薄膜层的步骤，获得致密的硬质薄膜层。在同一设备同一数量级气压条件下连续进行离子渗氮及电弧离子镀膜的工艺，采用双级磁场线圈结构的增强过滤阴极弧源，使用高密度的Ar离子轰击硬质薄膜层，进一步磨平薄膜中的粗糙颗粒，提高层间结合力和致密度。

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