一种彩膜在薄膜晶体管之上的液晶显示器件及其制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200610139758.9
IPC分类号：G02F1/136;G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/20;H01L21/00
申请日期：
2006-09-22
申请人：
北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司

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专利名称	一种彩膜在薄膜晶体管之上的液晶显示器件及其制造方法
申请号	CN200610139758.9	申请日期	2006-09-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2008-03-26	公开/公告号	CN101149541
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/136 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;5;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;3;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京经济技术开发区西环中路8号;北京经济技术开发区西环中路8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	北京京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
发明人	龙春平
代理机构	北京同立钧成知识产权代理有限公司	代理人	刘芳

摘要

本发明公开了一种彩膜在薄膜晶体管之上的液晶显示器件，其中包括：下基板；栅线及栅电极；薄膜晶体管，形成栅电极上；数据线及与其相连接的源电极和对应的漏电极，形成在薄膜晶体管之上；钝化保护膜，形成薄膜晶体管沟道之上，且在漏电极对应部分开有过孔；黑矩阵，形成在钝化保护膜之上，且在前述过孔位置对应处开有过孔，黑矩阵开口处对应于像素区域；彩色滤光层，形成在黑矩阵的开口处；一像素电极，形成在的彩色滤光层之上，并通过过孔与漏电极接触；上基板；公共电极，形成在上基板上；一液晶分子层，形成在上基板和下基板之间。本发明同时公开了该显示器件的制造方法。本发明提高了液晶显示器件的光透过率和开口率，简化了工艺方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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