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复合元件、衬底叠层及分离方法、层转移及衬底制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN00101844.2
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2000-02-02
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称复合元件、衬底叠层及分离方法、层转移及衬底制造方法
申请号CN00101844.2申请日期2000-02-02
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2000-08-23公开/公告号CN1264156
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人柳田一隆;近江和明;坂口清文;栗栖裕和
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人王永刚
摘要
键合第一与第二衬底而形成的键合衬底叠层被恰当地分离。具有内部多孔层以及多孔层上的单晶硅层和绝缘层的第一衬底(10)与第二衬底,在偏离中心位置的情况下紧密接触,以便制备具有突出部分的键合衬底叠层(30),第一衬底(10)的外边沿在突出部分处突出到第二衬底(20)的外边沿外面。首先,将流体喷射到突出部分以形成分离开始部分(40),然后,在旋转键合衬底叠层(30)时,从分离开始部分(40)开始分离。

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